半導體泵浦激光原理實驗裝置

產品詳細資料

XGL-2/2A半導體泵浦激光原理實驗裝置主要適用于大學近代物理教學中非線性光學實驗，實驗系統采用波長為808nm的半導體泵浦源，激光晶體為Nd:YVO4，以及KTP倍頻晶體等，學生可以自己動手，通過調整激光器光路，觀察倍頻現象，并測量倍頻效率、相位匹配角等參數，從而進一步了解和掌握激光原理及激光技術。

XGL-2/2A半導體泵浦激光原理實驗實驗內容

LD泵浦Nd:YVO4固體激光器的基本概念

LD泵浦Nd:YVO4固體激光器的主要參數測量（閾值、斜率效率等）

LD泵浦Nd:YVO4固體激光器的倍頻原理和實驗

LD泵浦Nd:YVO4固體激光器光斑尺寸的測量

LD泵浦Nd:YVO4固體激光器遠場發散角的測量

XGL-2/2A半導體泵浦激光原理實驗裝置規格參數

光學導軌：490mm，硬鋁型材

泵浦光源：808nm半導體激光器

指示光源：632.8nmHe-Ne激光器，功率≥1.5mw

激光晶體：ND:YVO4以及KTP倍頻晶體等，構成整個實驗系統

光學元件：輸出鏡等

激光功率指示儀：2μW、20μW、200μW、2mW、20mW、200mW六檔功能范圍，3位半數字顯示

其他附件：二維調整架、四維調整架等

XGL-2/2A半導體泵浦激光原理實驗基本配置

XGL-2/2A半導體泵浦激光原理實驗主機

SD808-1000G3泵浦光源

準直氦氖激光器（含電源）

刀口部件、光闌部件

實驗講義

配套工具等

選配

激光功率指示儀

注：XGL-2A型激光功率指示儀為標準配置。